发布时间:2020-08-26浏览次数:3347
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设备简介: 均温氧化扩散炉 应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。 |
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配置详情
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设备特点: 1.温场均匀,恒温区长度及精度:300~1250mm 800~1200℃±1℃
2.
具有强大的软件功能,NBD-101EP
嵌入式操作系统
,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;配有故障自诊断软件;
6.可存储多组PID参数供系统运行调用功能,具有多点温度补偿
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型号 |
T1200-250T3均温炉氧化扩散
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可配工艺管外径 |
炉管外径152mm 适用于3";炉管外径252mm 适用于6"; 炉管外径300mm 适用于8" |
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温度控制范围 |
300~115 0 ℃ |
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恒温区长度及精度 |
300~1250mm (依客户要求定) 300~8 00 ℃ ±1 .5 ℃ , 8 00~11 00 ℃ ±1℃ |
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可控升降温速率 |
升温速率:≦15 ℃ /min 降温速率≦5 ℃ /min |
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加热区 个数 |
3区,4区,5区,6区( 依客户要求定 ) |
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送料方式 |
手动送料 |
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冷却系统 |
水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排风冷≈25m3/min; |
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轴向 温场分布 |
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径向温场分布 |
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控制系统 |
1.烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
2.可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
3.实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
4.具有实现远程操控,实时观测设备状态;
5.温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正
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加热 腔体 |
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采用 优质加热丝:KANTHAL及HRE 绝热材料:晶体纤维等 绝缘子:高纯刚玉 , 间距依据温场调节 端口过渡环:氧化铝 纤维 真空成型。 温区 :3段、 4段 、5段、 6 段
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真空 密封系统 |
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真空度:≤10Pa(机械泵) |
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供气系统 |
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采用 质子流量计 控制气体流速,与设备集成为一体 ; |
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可选配项目 |
1、 出料口排毒气柜; 2、 净化出料台; 3、 自动石英浆推拉舟机构 |
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设备使用注意事项 |
1、 装取样片必须带石棉手套,使用石英器件小心打碎; 2、 选择合适的石英舟,取出清洁好的石英托板和石英拉钩; 3、 安装样片插入到石英舟的槽内,用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区; 4、 炉管内压力不得超过0.1 5 MPa(绝对压力),以防止压力过大 引起危险 ; 5 、 高真空下使用时),设备使用温度不得超过 10 00℃ ; |
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服务支持 |
一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和密封圈等) |
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