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发布时间：2022-10-29浏览次数：556


设备简介：

化学气相沉积 (CVD) 是指化学气体或 蒸 汽 在基质表面反应合成涂层或 纳 米材料 的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积 薄膜 材料的技术，包括大范围的绝缘材料， 以及 大多数金属材料和金属合金材料。 为此我们研发成套的 CVD 镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；

本设备基于新能源领域客户需求定制，反应气体包括易燃易爆及有毒有害气体，及通过气相发生器气化的液体。多路质量流量计精确控制进气量。高精度压力传感器、电磁阀、气体检测仪、报警器及尾气处理罐，确保工作过程的安全、高效及无害化排放。


技术参数 ：

1.通过高精度氧分析仪确保无氧工作环境；

2.物料在基于旋转摆振结构的异形石英腔内，能够在稳定均匀的温场内，最大程度地与反应气体充分接触；

3.独有悬挂式气相发生器，能够在工作腔摆振的同时，始终保持水平稳定输出；

4.多路质量流量控制器，可精确控制气体流量；

5.高密封性连接工艺，确保可燃性气体及有毒有害气体无任何泄露，高灵敏度压力传感器及电磁阀可保证工作腔室内的压力始终在设定范围；

6.易燃易爆及有毒有害气体检测仪与设备联动，可及时获取实时数据并采取相应闭合措施，同时，两个报警仪在超出设定警戒值时发出预警提示；

7.工作腔室排出的尾气通过尾气处理罐进行无害化处理。

产品型号

NBD-RT1200-120T2D5ZYW-N

供电电源

三相380V 50HZ

控温精度

±1℃

额定功率 8KW
测温元件类型

K型热电偶 250mm

最高温度

1100℃

加热温区尺寸

φ150*430mm

炉管材质

高纯石英

炉管容积

5L

样品有效容积

500ml

倾斜角度

-20度（出料）~3度（进料）

炉管转速

0.1~12.6转/每分钟

炉体尺寸

长1550×深830×高1360mm（含乙炔报警器2160mm ）

推荐升温速率

10℃/min

重量

约260KG

控制系统

1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置；
2、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结；
3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录；
4、具有实现远程操控，实时观测设备状态；
5、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正 。

* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746

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