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发布时间:2023-11-10浏览次数:92

设备简介:

  化学气相沉积 (CVD) 是指化学气体或 在基质表面反应合成涂层或 米材料 的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积 薄膜 材料的技术,包括大范围的绝缘材料, 以及 大多数金属材料和金属合金材料。 为此我们研发成套的 CVD 镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;





高温 CVD一体机由以下几部分组成。

▲烧结系统;▲电控系统;▲上盖开启系统;▲真空系统;



配置详情

设备特点:

1、控制稳定可靠,操作方便。

2、 采用先进的 PID自学习模糊控制, 控温精度高,保持在 ±1℃。

3、 炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。

4、 数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30 天之久(每天开机 8小时)。

5、 配方功能,可预存配方 100条以上。

6、 五个温区独 立控制,使客户烧结工艺更加复杂多样。

7、 联网功能,通过 RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。

产品型号

NBD-T1200-100T5G4F

供电电源

三相380V 50HZ

额定功率

10KW

测温元件类型

K 型热电偶200mm

最高温度

1150℃

加热温区尺寸

Φ150*1135mm

炉管尺寸

Φ100*1600mm

炉体尺寸

1900*高1250* 深900mm

推荐升温速率

10℃/min

重量

350kg

设备细节


控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
2、 可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
3、 实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
4、 具有实现远程操控,实时观测设备状态;
5、 温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

温度精度

±1℃

流程控制画面


服务支持

1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和O形圈等)


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